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出てくるもの1:バンドの曲がり・反転層・しきい値電圧

2026年10月15日15分で読めますAI生成教科書『虎の巻』第4部 第9章 MOS 構造とトランジスタの原理
目次
  1. 第一積分
  2. 蓄積・空乏・反転
  3. しきい値電圧
  4. 木下の層

AI 生成・木下が未勉強

ハミルトニアンの選び方で固体を考える 第4部 第9章 §4.9.2 ★★★ Poisson–Boltzmann 方程式の第一積分で、表面の電荷を表面の電位の関数として厳密に書く。蓄積・空乏・反転の3つの領域が1つの式から出て、表面の電位が 2ϕB2\phi_{\mathrm B} で頭打ちになることから、しきい値電圧が決まる

第一積分

u(x)≔eϕ(x)/(kBT)u(x)\coloneqq e\phi(x)/( k_{\mathrm B} T) と書き、p 型で p0−n0=NAp_0-n_0=N_{\mathrm A} を使うと、式 (4.9.2) と (4.9.3) は

d2ϕdx2=−eε0εrs[p0(e−u−1)−n0(eu−1)]\frac{\mathrm{d}^2\phi}{\mathrm{d} x^2}=-\frac{e}{\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}}\Bigl[p_0\bigl(\mathrm{e}^{-u}-1\bigr)-n_0\bigl(\mathrm{e}^{u}-1\bigr)\Bigr]

になる。右辺は ϕ\phi だけの関数なので、この方程式は「xx を時間、ϕ\phi を位置とみなした1次元の粒子の Newton 方程式」と同じ形をしている。Newton 方程式でエネルギー保存の式を出すのと同じく、両辺に 2 dϕ/dx2\,\mathrm{d}\phi/\mathrm{d} x を掛けて xx で積分する。バルク(x→∞x\to\infty)で ϕ→0\phi\to0、dϕ/dx→0\mathrm{d}\phi/\mathrm{d} x\to0 を境界条件にすると

(dϕdx)2=2kBTp0ε0εrs G(u)2,G(u)2=(e−u+u−1)+n0p0(eu−u−1)(4.9.7)\Bigl(\frac{\mathrm{d}\phi}{\mathrm{d} x}\Bigr)^2=\frac{2 k_{\mathrm B} Tp_0}{\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}}\,G(u)^2,\qquad G(u)^2=\bigl(\mathrm{e}^{-u}+u-1\bigr)+\frac{n_0}{p_0}\bigl(\mathrm{e}^{u}-u-1\bigr)\tag{4.9.7}

を得る。G(u)2G(u)^2 の2つの括弧はどちらも uu の符号によらず 00 以上で、u=0u=0 でだけ 00 になる。

表面の電場 Es=−dϕ/dx∣x=0E_{\mathrm s}=-\mathrm{d}\phi/\mathrm{d} x|_{x=0} は、Gauss の法則で半導体の中の全電荷と Qs=−ε0εrsEsQ_{\mathrm s}=-\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}E_{\mathrm s} で結ばれる(x>0x>0 の側に電荷があり、その外では電場が 00)。ϕs>0\phi_{\mathrm s}>0 なら ϕ\phi は奥へ向かって減るので Es>0E_{\mathrm s}>0 である。したがって、表面の電位 us=eϕs/(kBT)u_{\mathrm s}=e\phi_{\mathrm s}/( k_{\mathrm B} T) を決めれば、半導体の電荷は

Qs=−sgn⁡(us)2ε0εrskBTp0  G(us)(4.9.8)Q_{\mathrm s}=-\operatorname{sgn}(u_{\mathrm s})\sqrt{2\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}} k_{\mathrm B} Tp_0}\;G(u_{\mathrm s})\tag{4.9.8}

と、微分方程式を解かずに書くことができる。この式は、式 (4.9.3) と一様な NAN_{\mathrm A} を仮定した範囲で厳密である。

蓄積・空乏・反転

式 (4.9.8) の G(us)G(u_{\mathrm s}) のどの項が大きいかで、3つの領域に分かれる(図 4.9.2)。

蓄積(ϕs<0\phi_{\mathrm s}<0)。ゲートを負にするとバンドが上へ曲がり、表面に正孔が集まる。∣us∣≫1\lvert u_{\mathrm s}\rvert \gg1 では e−us\mathrm{e}^{-u_{\mathrm s}} の項が大きく、∣Qs∣∝e∣us∣/2\lvert Q_{\mathrm s}\rvert \propto\mathrm{e}^{\lvert u_{\mathrm s}\rvert /2} と指数関数的に増える。

空乏(0<ϕs<2ϕB0<\phi_{\mathrm s}<2\phi_{\mathrm B})。ゲートを正にするとバンドが下へ曲がり、表面から正孔が押し出される。表面には動けない負のアクセプターのイオンが残る。1≪us1\ll u_{\mathrm s} で、まだ電子の項 (n0/p0)eus(n_0/p_0)\mathrm{e}^{u_{\mathrm s}} が usu_{\mathrm s} より小さいあいだは G2≃us−1G^2\simeq u_{\mathrm s}-1 なので、∣Qs∣≃2ε0εrseNAϕs\lvert Q_{\mathrm s}\rvert \simeq\sqrt{2\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}eN_{\mathrm A}\phi_{\mathrm s}} である。これは、表面から厚さ xdx_{\mathrm d} の層の正孔をすべて取り除き、アクセプターのイオンの電荷 −eNA-eN_{\mathrm A} だけを残したと考えた結果(空乏近似)

ϕ(x)=ϕs(1−xxd)2(0≤x≤xd),xd=2ε0εrsϕseNA,Qs=−eNAxd(4.9.9)\phi(x)=\phi_{\mathrm s}\Bigl(1-\frac{x}{x_{\mathrm d}}\Bigr)^2\quad(0\le x\le x_{\mathrm d}),\qquad x_{\mathrm d}=\sqrt{\frac{2\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}\phi_{\mathrm s}}{eN_{\mathrm A}}},\qquad Q_{\mathrm s}=-eN_{\mathrm A}x_{\mathrm d}\tag{4.9.9}

と同じである(第4部第5章の pn 接合の空乏層と同じ式)。空乏層の端で電位が放物線から 00 へなめらかにつながる遷移の幅は λD\lambda_{\mathrm D} ほどで、−1-1 の補正はその分である。

反転(ϕs>2ϕB\phi_{\mathrm s}>2\phi_{\mathrm B})。表面の電子の数密度は n(0)=n0eus=(ni2/NA)eusn(0)=n_0\mathrm{e}^{u_{\mathrm s}}=(n_{\mathrm i}^2/N_{\mathrm A})\mathrm{e}^{u_{\mathrm s}} で、ϕs=2ϕB\phi_{\mathrm s}=2\phi_{\mathrm B} のときちょうど NAN_{\mathrm A} になる。バンドの言葉では、表面で化学ポテンシャルが εi\varepsilon _{\mathrm i} より eϕBe\phi_{\mathrm B} だけ上にあり、バルクの p 型と逆向きに同じだけ偏っている(図 4.9.1)。これを越えると表面は n 型のように電子が多数になる。これを反転と呼び、ϕs=2ϕB\phi_{\mathrm s}=2\phi_{\mathrm B} を強い反転の始まりとする。この先は電子の項が eus/2\mathrm{e}^{u_{\mathrm s}/2} で増えるので、電荷は指数関数的に増える。

図

図 4.9.1 強い反転(ϕs=2ϕB\phi_{\mathrm s}=2\phi_{\mathrm B})の MOS 構造のバンド(模式図。仕事関数の差を 00 とした)。半導体のバンドは空乏近似の放物線 (4.9.9) で下へ曲がり、化学ポテンシャル μ\mu(灰色の破線)は一定である。表面では μ\mu が禁制帯の中央 εi\varepsilon _{\mathrm i}(黒の破線)より eϕBe\phi_{\mathrm B} だけ上にあり、伝導帯の底が μ\mu に近づいて電子が集まる。金属の μ\mu は半導体より eVGeV_{\mathrm G} だけ下にある。

図

図 4.9.2 半導体の電荷の大きさ ∣Qs∣\lvert Q_{\mathrm s}\rvert と表面の電位 ϕs\phi_{\mathrm s}(例題 4.9.1 の Si)。点線は第一積分の厳密な式 (4.9.8)、実線は空乏近似 2ε0εrseNAϕs\sqrt{2\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}eN_{\mathrm A}\phi_{\mathrm s}}。蓄積と反転では電荷が指数関数的に増え、その間の空乏では ϕs\sqrt{\phi_{\mathrm s}} でゆっくり増える。縦軸は対数。

しきい値電圧

反転を越えると、表面の電位を kBT/ek_{\mathrm B} T/e の数倍だけ上げるたびに電子の電荷が数倍ずつ増える。式 (4.9.6) で Vox=−Qs/CoxV_{\mathrm{ox}}=-Q_{\mathrm s}/C_{\mathrm{ox}} が電荷とともに大きくなるので、ゲートの電圧を上げても、増えた分のほとんどは酸化膜にかかり、ϕs\phi_{\mathrm s} は 2ϕB2\phi_{\mathrm B} の近くにとどまる(例題 4.9.3)。そこで、強い反転では ϕs≃2ϕB\phi_{\mathrm s}\simeq2\phi_{\mathrm B} と固定し、空乏層の電荷もそのときの値

Qdep=−2ε0εrseNA⋅2ϕB,xd,max=2ε0εrs⋅2ϕBeNAQ_{\mathrm{dep}}=-\sqrt{2\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}eN_{\mathrm A}\cdot2\phi_{\mathrm B}},\qquad x_{\mathrm{d,max}}=\sqrt{\frac{2\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}\cdot2\phi_{\mathrm B}}{eN_{\mathrm A}}}

で止まるとみなす。Qs=Qdep+QnQ_{\mathrm s}=Q_{\mathrm{dep}}+Q_{\mathrm n}(QnQ_{\mathrm n} は反転層の電子の電荷)を式 (4.9.6) に入れると

Qn=−Cox(VG−Vth),Vth=VFB+2ϕB+2ε0εrseNA⋅2ϕBCox(4.9.10)Q_{\mathrm n}=-C_{\mathrm{ox}}\bigl(V_{\mathrm G}-V_{\mathrm{th}}\bigr),\qquad V_{\mathrm{th}}=V_{\mathrm{FB}}+2\phi_{\mathrm B}+\frac{\sqrt{2\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}}eN_{\mathrm A}\cdot2\phi_{\mathrm B}}}{C_{\mathrm{ox}}}\tag{4.9.10}

を得る。しきい値電圧 VthV_{\mathrm{th}} は、バンドを 2ϕB2\phi_{\mathrm B} だけ曲げる電圧と、空乏層の電荷を酸化膜のコンデンサーに載せる電圧の和である。VthV_{\mathrm{th}} を越えた分の電圧は、酸化膜のコンデンサーの式どおりに電子の電荷になる。反転層の電子は、ゲートの金属と酸化膜をはさんで向かい合うコンデンサーのもう一方の極板である。

ちょうど ϕs=2ϕB\phi_{\mathrm s}=2\phi_{\mathrm B} では (n0/p0)eus=1(n_0/p_0)\mathrm{e}^{u_{\mathrm s}}=1 なので、式 (4.9.7) は G2=e−us+us−(n0/p0)(us+1)≃usG^2=\mathrm{e}^{-u_{\mathrm s}}+u_{\mathrm s}-(n_0/p_0)(u_{\mathrm s}+1)\simeq u_{\mathrm s} になり、厳密な ∣Qs∣\lvert Q_{\mathrm s}\rvert は空乏近似の値と一致する。空乏近似が落とした −1-1(空乏層の端の遷移)を、表面の電子の電荷がちょうど埋め合わせている。

例題 4.9.2 しきい値電圧を部品に分ける ★★★

オリジナル例題 4.9.1 の Si に、厚さ dox=10 nmd_{\mathrm{ox}}=10\,\mathrm{nm}、εro=3.9\varepsilon_{\mathrm{ro}}=3.9 の酸化膜を付ける。平坦帯電圧は VFB=−1.00 VV_{\mathrm{FB}}=-1.00\,\mathrm V とする。

  1. (1) CoxC_{\mathrm{ox}}・xd,maxx_{\mathrm{d,max}}・∣Qdep∣\lvert Q_{\mathrm{dep}}\rvert を求めよ。
  2. (2) VthV_{\mathrm{th}} を求め、2ϕB2\phi_{\mathrm B} の部分と空乏層の電荷の部分の割合を述べよ。
  3. (3) 酸化膜を 5 nm5\,\mathrm{nm} に薄くすると、Vth−VFBV_{\mathrm{th}}-V_{\mathrm{FB}} はどうなるか。
解答

(1) Cox=3.9×8.854×10−12/(1.0×10−8)=3.45×10−3 F m−2C_{\mathrm{ox}}=3.9\times8.854\times10^{-12}/(1.0\times10^{-8})=3.45\times10^{-3}\,\mathrm{F\,m^{-2}} である。2ϕB=0.833 V2\phi_{\mathrm B}=0.833\,\mathrm V なので

xd,max=2×1.036×10−10×0.8331.602×104 m=1.04×10−7 m,∣Qdep∣=eNAxd,max=1.66×10−3 C m−2\begin{gathered}x_{\mathrm{d,max}}=\sqrt{\frac{2\times1.036\times10^{-10}\times0.833}{1.602\times10^{4}}}\,\mathrm m=1.04\times10^{-7}\,\mathrm m,\\ \lvert Q_{\mathrm{dep}}\rvert =eN_{\mathrm A}x_{\mathrm{d,max}}=1.66\times10^{-3}\,\mathrm{C\,m^{-2}}\end{gathered}

である。空乏層の厚さ 0.104 μm0.104\,\mathrm{\mu m} は λD=12.9 nm\lambda_{\mathrm D}=12.9\,\mathrm{nm} の8倍で、空乏近似の前提(空乏層が遷移の幅より十分厚い)が満たされている。

(2) ∣Qdep∣/Cox=1.66×10−3/3.45×10−3=0.482 V\lvert Q_{\mathrm{dep}}\rvert /C_{\mathrm{ox}}=1.66\times10^{-3}/3.45\times10^{-3}=0.482\,\mathrm V なのでVth=−1.00+0.833+0.482=0.315 VV_{\mathrm{th}}=-1.00+0.833+0.482=0.315\,\mathrm V である。Vth−VFB=1.315 VV_{\mathrm{th}}-V_{\mathrm{FB}}=1.315\,\mathrm V のうち 63%63\% がバンドを曲げる分、37%37\% が空乏層の電荷を酸化膜に載せる電圧である。

(3) CoxC_{\mathrm{ox}} が2倍になるので空乏層の部分は半分の 0.241 V0.241\,\mathrm V になり、Vth−VFB=0.833+0.241=1.074 VV_{\mathrm{th}}-V_{\mathrm{FB}}=0.833+0.241=1.074\,\mathrm V である。2ϕB2\phi_{\mathrm B} の部分は酸化膜によらない。酸化膜を薄くするとゲートの電圧が半導体の表面へ伝わる割合が大きくなり、同じ電圧の変化で動かせる電子の電荷 CoxΔVGC_{\mathrm{ox}}\Delta V_{\mathrm G} も2倍になる。

例題 4.9.3 表面の電位は 2ϕB2\phi_{\mathrm B} をどれだけ越えるか ★★

オリジナル例題 4.9.1 の Si で、反転層の電子の電荷 ∣Qn∣\lvert Q_{\mathrm n}\rvert が ϕs=2ϕB\phi_{\mathrm s}=2\phi_{\mathrm B} での空乏層の電荷 ∣Qdep∣\lvert Q_{\mathrm{dep}}\rvert と等しくなる表面の電位を求めよ。電子の電荷は、式 (4.9.8) から電子の項を除いた電荷(アクセプターと正孔の分)を引いたものとする。

解答

A=2ε0εrskBTp0A=\sqrt{2\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm{rs}} k_{\mathrm B} Tp_0}、uinv=2eϕB/(kBT)=32.24u_{\mathrm{inv}}=2e\phi_{\mathrm B}/( k_{\mathrm B} T)=32.24 と書く。us=uinv+δu_{\mathrm s}=u_{\mathrm{inv}}+\delta とおくと (n0/p0)eus=eδ(n_0/p_0)\mathrm{e}^{u_{\mathrm s}}=\mathrm{e}^{\delta} で、us≫1u_{\mathrm s}\gg1 では

∣Qn∣≃A(us−1+eδ−us−1),∣Qdep∣=Auinv\lvert Q_{\mathrm n}\rvert \simeq A\Bigl(\sqrt{u_{\mathrm s}-1+\mathrm{e}^{\delta}}-\sqrt{u_{\mathrm s}-1}\Bigr),\qquad \lvert Q_{\mathrm{dep}}\rvert =A\sqrt{u_{\mathrm{inv}}}

である。us−1u_{\mathrm s}-1 を uinvu_{\mathrm{inv}} で置き換える粗い見積もりでは、uinv+eδ=2uinv\sqrt{u_{\mathrm{inv}}+\mathrm{e}^{\delta}}=2\sqrt{u_{\mathrm{inv}}} から eδ=3uinv\mathrm{e}^{\delta}=3u_{\mathrm{inv}}、δ=ln⁡96.7=4.57\delta=\ln96.7=4.57、すなわち ϕs−2ϕB=4.57×0.02585=0.118 V\phi_{\mathrm s}-2\phi_{\mathrm B}=4.57\times0.02585=0.118\,\mathrm V になる。置き換えずに方程式を数値で解くと 0.119 V0.119\,\mathrm V である。

電子の電荷を空乏層の電荷と同じだけ(VGV_{\mathrm G} を VthV_{\mathrm{th}} より ∣Qdep∣/Cox=0.48 V\lvert Q_{\mathrm{dep}}\rvert /C_{\mathrm{ox}}=0.48\,\mathrm V 上げるのと同じだけ)増やしても、表面の電位は 0.12 V0.12\,\mathrm V しか動かない。電子の数が eus\mathrm{e}^{u_{\mathrm s}} で増えるので、kBT/ek_{\mathrm B} T/e の数倍の変化で電荷が桁で変わるからである。これが、強い反転で ϕs≃2ϕB\phi_{\mathrm s}\simeq2\phi_{\mathrm B} と固定してよい理由で、そのときの誤差は VthV_{\mathrm{th}} に 0.1 V0.1\,\mathrm V ほどの曖昧さとして残る。

木下の勉強ステータス

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AI(Claude)が書いた教材を、木下が勉強しながら公開しています。式と数値は検算していますが、誤りが残っているかもしれません。誤りのご指摘・削除のご依頼をいただければ直します。 連絡先:support@tecktom.com

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