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何の実験の量で確かめるか・授業で習った形との対応

2026年10月15日9分で読めますAI生成教科書『虎の巻』第4部 第5章 半導体
目次
  1. 何の実験の量で確かめるか
  2. 授業で習った形との対応
  3. 木下の層

AI 生成・木下が未勉強

ハミルトニアンの選び方で固体を考える 第4部 第5章 §4.5.6 ★★ Hall 効果の温度変化で n(T)n(T) と EDE_{\mathrm D}、赤外吸収で不純物の準位、容量と電圧の関係で NDN_{\mathrm D} と VbiV_{\mathrm{bi}}、電流と電圧の関係で Shockley の式を確かめる

何の実験の量で確かめるか

Hall 効果の温度変化。Hall 係数は1種類のキャリアなら −1/(ne)-1/(ne) で、符号からキャリアの種類が、大きさから密度が分かる(第4部第4章)。これを温度を変えて測り、ln⁡n\ln n を 1/T1/T に対して描くと図 4.5.1 の形が得られ、凍結の領域の傾きから EDE_{\mathrm D}(補償なしなら傾きは ED/2E_{\mathrm D}/2)、飽和の値から ND−NAN_{\mathrm D}-N_{\mathrm A}、真性の領域の傾きから Eg/2E_{\mathrm g}/2 を読み取ることができる。抵抗率と合わせれば移動度 μe=σ/(ne)\mu_{\mathrm e}=\sigma/(ne) も分かる(第4部第2章)。

赤外吸収。低温で中性のドナーに赤外光を当てると、包絡線の 1s から 2p2p・3p3p などの励起状態への遷移が鋭い吸収線として現れる。線の間隔は水素の系列を EDE_{\mathrm D} で縮めた形になり、有効質量近似の検証になる(上で引いた Faulkner と Jagannath らの比較はこの測定による)。

容量と電圧の関係。空乏層は誘電体をはさんだコンデンサとみなせ、単位面積あたりの容量は C′=ε0εr/WC'=\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm r}/W である。NA≫NDN_{\mathrm A}\gg N_{\mathrm D} の片側の接合では式 (4.5.20) から

1C′2=2(Vbi−V)eε0εrND(4.5.27)\frac{1}{C'^2}=\frac{2(V_{\mathrm{bi}}-V)}{e\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm r}N_{\mathrm D}}\tag{4.5.27}

で、1/C′21/C'^2 を VV に対して描くと直線になり、傾きから NDN_{\mathrm D}、VV 軸の切片から VbiV_{\mathrm{bi}} を読み取ることができる。

電流と電圧の関係。ln⁡J\ln J を VV に対して描くと、Shockley の式の範囲では傾きが e/(kBT)e/( k_{\mathrm B} T)、すなわち室温で 11 桁あたり 59.5 mV59.5\,\mathrm{mV} になる。実際の接合では傾きが e/(nidkBT)e/(n_{\mathrm{id}} k_{\mathrm B} T)(1≤nid≤21\le n_{\mathrm{id}}\le2)になることが多く、nidn_{\mathrm{id}} を理想因子と呼ぶ。nidn_{\mathrm{id}} が 2 に近いことは、4.5.5節で述べた空乏層の中の再結合の電流が支配的であることを示す。太陽電池では、開放電圧と光電流の関係 (4.5.25) が同じ JsJ_{\mathrm s} で書けるかを確かめる。

例題 4.5.9 容量の測定から NDN_{\mathrm D} と VbiV_{\mathrm{bi}} を読む ★★

オリジナルSi(εr=11.7\varepsilon_{\mathrm r}=11.7)の p+\mathrm p^+n 接合(NA≫NDN_{\mathrm A}\gg N_{\mathrm D})の単位面積あたりの容量を測ったところ、V=0V=0 で C′=3.22×10−4 F m−2C'=3.22\times10^{-4}\,\mathrm{F\,m^{-2}}、V=−5 VV=-5\,\mathrm V で 1.20×10−4 F m−21.20\times10^{-4}\,\mathrm{F\,m^{-2}} だった。NDN_{\mathrm D} と VbiV_{\mathrm{bi}} を求めよ。

解答

1/C′21/C'^2 は V=0V=0 で 9.65×1069.65\times10^{6}、V=−5 VV=-5\,\mathrm V で 6.94×107 m4 F−26.94\times10^{7}\,\mathrm{m^4\,F^{-2}} で、その差を 5 V5\,\mathrm V で割った傾きは 1.196×107 m4 F−2 V−11.196\times10^{7}\,\mathrm{m^4\,F^{-2}\,V^{-1}} である。式 (4.5.27) の傾き 2/(eε0εrND)2/(e\varepsilon_0\varepsilon_{\mathrm r}N_{\mathrm D}) と比べて ND=2/(1.602×10−19×8.854×10−12×11.7×1.196×107)=1.0×1022 m−3=1.0×1016 cm−3N_{\mathrm D}=2/(1.602\times10^{-19}\times8.854\times10^{-12}\times11.7\times1.196\times10^{7})=1.0\times10^{22}\,\mathrm{m^{-3}}=1.0\times10^{16}\,\mathrm{cm^{-3}} である。V=0V=0 の値を傾きで割ると Vbi=9.65×106/1.196×107=0.81 VV_{\mathrm{bi}}=9.65\times10^{6}/1.196\times10^{7}=0.81\,\mathrm V になる(容量の有効数字3桁で ±0.01 V\pm0.01\,\mathrm V ほど)。2点だけでは直線であることを確かめられないので、実際には多数の電圧で測り、直線から外れれば NDN_{\mathrm D} が深さとともに変わっていると読む(WW がその深さを与える)。

授業で習った形との対応

学部の半導体の授業では、この章の式を次の形で書くことが多い。電荷を qq(=e=e)、Fermi 準位を EFE_{\mathrm F}(=μ=\mu)、バンドの端を ECE_{\mathrm C}・EVE_{\mathrm V}、ドナーの準位を EDE_{\mathrm D} と書く。この章の EDE_{\mathrm D} は結合エネルギー(εc−εD\varepsilon _{\mathrm c}-\varepsilon _{\mathrm D})なので、授業の EC−EDE_{\mathrm C}-E_{\mathrm D} がこれに当たる。

ND+=ND1+2exp⁡((EF−ED)/kBT),Vbi=kBTqln⁡NANDni2,I=I0(eqV/(nidkBT)−1)N_{\mathrm D}^+=\frac{N_{\mathrm D}}{1+2\exp\bigl((E_{\mathrm F}-E_{\mathrm D})/ k_{\mathrm B} T\bigr)},\qquad V_{\mathrm{bi}}=\frac{ k_{\mathrm B} T}{q}\ln\frac{N_{\mathrm A}N_{\mathrm D}}{n_{\mathrm i}^2},\qquad I=I_0\bigl(\mathrm{e}^{qV/(n_{\mathrm{id}} k_{\mathrm B} T)}-1\bigr)

第1式は式 (4.5.7) と同じで、授業では「縮退度 g=2g=2」と呼ぶ因子が、この章では大分配関数 (4.5.6) のスピンの2状態として出た。第2式は式 (4.5.16) の第1の形である。授業ではこれを「接合の両側で Fermi 準位がそろう」図から読み、この章では μ\mu が平らでなければ電流が流れ続けることと、Einstein の関係 (4.5.18) で Jn=0J_n=0 になることの2通りに言い換えた。第3式は Shockley の式 (4.5.23) に理想因子を入れたもので、I0I_0 は JsJ_{\mathrm s} に面積を掛けたものである。授業では理想因子を測定値の補正として出すことが多いが、この章では nid=1n_{\mathrm{id}}=1 が低注入と拡散の電流、nid=2n_{\mathrm{id}}=2 が空乏層の中の再結合または高注入から出ることを4.5.5節で述べた。

授業のバンド図は、縦にエネルギー、横に位置をとり、Fermi 準位を水平な破線で描く(図 4.5.2)。この図の「バンドが曲がる」は、電子のポテンシャルエネルギー −eϕ(x)-e\phi(x) がバンドの端に足されることそのもので、電場の中で電子は εc(x)\varepsilon _{\mathrm c}(x) の低い向きへ、正孔は εv(x)\varepsilon _{\mathrm v}(x) の高い向き(正孔のエネルギーは下向きに測るので、正孔にとってエネルギーの低い向き)へ動く。

例題 4.5.10 理想因子と飽和電流を電流の測定から読む ★

オリジナル室温(kBT/q=0.02585 Vk_{\mathrm B} T/q=0.02585\,\mathrm V)のダイオードで、V=0.40 VV=0.40\,\mathrm V で I=1.00×10−7 AI=1.00\times10^{-7}\,\mathrm A、V=0.50 VV=0.50\,\mathrm V で I=2.51×10−6 AI=2.51\times10^{-6}\,\mathrm A だった。I=I0(eqV/(nidkBT)−1)I=I_0(\mathrm{e}^{qV/(n_{\mathrm{id}} k_{\mathrm B} T)}-1) の −1-1 を無視して、理想因子 nidn_{\mathrm{id}} と I0I_0 を求めよ。

解答

2点の比をとると ln⁡(2.51×10−6/1.00×10−7)=ln⁡25.1=3.223\ln(2.51\times10^{-6}/1.00\times10^{-7})=\ln25.1=3.223 が 0.10/(nid×0.02585)0.10/(n_{\mathrm{id}}\times0.02585) に等しいので、nid=0.10/(0.02585×3.223)=1.20n_{\mathrm{id}}=0.10/(0.02585\times3.223)=1.20 である。I0=1.00×10−7×e−0.40/(1.20×0.02585)=1.00×10−7×e−12.9=2.5×10−13 AI_0=1.00\times10^{-7}\times\mathrm{e}^{-0.40/(1.20\times0.02585)}=1.00\times10^{-7}\times\mathrm{e}^{-12.9}=2.5\times10^{-13}\,\mathrm A である。nid=1.2n_{\mathrm{id}}=1.2 は、拡散の電流が主で、空乏層の中の再結合の電流が少し混ざっていることを示す。−1-1 を無視したのは、eqV/(nidkBT)\mathrm{e}^{qV/(n_{\mathrm{id}} k_{\mathrm B} T)} がどちらの点でも 10510^5 を超えるからである。

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