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出てくるもの1:Drude の伝導度テンソルと Hall 効果

2026年10月15日9分で読めますAI生成教科書『虎の巻』第4部 第4章 磁場中の電子
目次
  1. 運動方程式と伝導度テンソル
  2. 抵抗率テンソルと Hall 係数
  3. 木下の層

AI 生成・木下が未勉強

ハミルトニアンの選び方で固体を考える 第4部 第4章 §4.4.2 ★★★ 磁場の中の伝導度は反対称な成分を持つテンソルになる。抵抗率の非対角成分 ρyx=−B/(ne)\rho_{yx}=-B/(ne) は緩和時間によらず、密度と電荷の符号だけを測る

運動方程式と伝導度テンソル

ωcτ\omega_{\mathrm c}\tau が任意でも、軌道の量子化を無視できる(ℏωc≪kBT\hbar\omega_{\mathrm c}\ll k_{\mathrm B} T)範囲では、電子を古典の軌道として扱ってよい。放物線のバンドで τ\tau がエネルギーによらないとき、前の章の線形化した Boltzmann 方程式に Lorentz 力の項 −e(v×B)⋅∇kf/ℏ-e(\bm{v}\times\bm{B})\cdot\nabla_{\bm{k}}f/\hbar を足して解くと、平均の速度 v\bm{v} が次の Drude の運動方程式に従うのと同じ結果になる:

m∗dvdt=−e(E+v×B)−m∗vτ.(4.4.7)m^*\frac{\mathrm{d} \bm{v}}{\mathrm{d} t}=-e(\bm{E}+\bm{v}\times\bm{B})-\frac{m^*\bm{v}}{\tau}.\tag{4.4.7}

定常状態 dv/dt=0\mathrm{d}\bm{v}/\mathrm{d} t=0 で B=Bez\bm{B}=B\bm{e}_z の面内の2成分を書くと、0=−e(Ex+vyB)−m∗vx/τ0=-e(E_x+v_yB)-m^*v_x/\tau、0=−e(Ey−vxB)−m∗vy/τ0=-e(E_y-v_xB)-m^*v_y/\tau である。これを vx,vyv_x,v_y について解き、電流 J=−nev\bm{J}=-ne\bm{v} に入れると、σ0=ne2τ/m∗\sigma_0=ne^2\tau/m^* として

(JxJy)=σ01+(ωcτ)2(1−ωcτωcτ1)(ExEy)(4.4.8)\begin{pmatrix}J_x\\J_y\end{pmatrix}=\frac{\sigma_0}{1+(\omega_{\mathrm c}\tau)^2}\begin{pmatrix}1&-\omega_{\mathrm c}\tau\\ \omega_{\mathrm c}\tau&1\end{pmatrix}\begin{pmatrix}E_x\\E_y\end{pmatrix}\tag{4.4.8}

を得る。対角成分 σxx=σ0/(1+(ωcτ)2)\sigma_{xx}=\sigma_0/(1+(\omega_{\mathrm c}\tau)^2) は磁場で減り、非対角成分 σyx=−σxy=σ0ωcτ/(1+(ωcτ)2)\sigma_{yx}=-\sigma_{xy}=\sigma_0\omega_{\mathrm c}\tau/(1+(\omega_{\mathrm c}\tau)^2) が現れる。xx 方向の電場で電子は −x-x 方向へ流され、Lorentz 力 −ev×B-e\bm{v}\times\bm{B} で −y-y 方向へ曲げられるので、電流は +y+y 方向に出る。σyx>0\sigma_{yx}>0 はこれを表している。

テンソルの形には対称性の制約がある。磁場の向きを逆にすると ωcτ\omega_{\mathrm c}\tau の符号が変わるので、(4.4.8) は

σxy(B)=σyx(−B)(4.4.9)\sigma_{xy}(\bm{B})=\sigma_{yx}(-\bm{B})\tag{4.4.9}

を満たす。これが磁場があるときの Onsager の相反関係で、第4部第3章で予告した Lab(B)=Lba(−B)L_{ab}(\bm{B})=L_{ba}(-\bm{B}) の電気伝導の成分にあたる。時間反転で磁場の向きが変わるので、対称になるのは同じ B\bm{B} での σxy\sigma_{xy} と σyx\sigma_{yx} でなく、逆向きの磁場での組である。

抵抗率テンソルと Hall 係数

実験では電流を xx 方向に流し、yy 方向には電流が流れないように端を開けておく(Hall の配置)。このときは、電流から電場を求める抵抗率テンソル ρ=σ−1\rho=\sigma^{-1} を使うのが便利である。(4.4.8) の逆行列は

ρ=1σ0(1ωcτ−ωcτ1),ρxx=1σ0,ρyx=−ωcτσ0=−Bne(4.4.10)\rho=\frac{1}{\sigma_0}\begin{pmatrix}1&\omega_{\mathrm c}\tau\\ -\omega_{\mathrm c}\tau&1\end{pmatrix},\qquad \rho_{xx}=\frac{1}{\sigma_0},\qquad \rho_{yx}=-\frac{\omega_{\mathrm c}\tau}{\sigma_0}=-\frac{B}{ne}\tag{4.4.10}

である。2つのことが分かる。第一に、ρxx\rho_{xx} は磁場によらない。キャリアが1種類で τ\tau がそろっていれば、磁気抵抗は 00 である。第二に、ρyx\rho_{yx} では τ\tau と m∗m^* が消え、密度 nn と電荷の符号だけが残る。Jy=0J_y=0 のとき Ey=ρyxJxE_y=\rho_{yx}J_x なので、Hall 係数は

RH≔EyJxB=ρyxB=−1ne(4.4.11)R_{\mathrm H}\coloneqq\frac{E_y}{J_xB}=\frac{\rho_{yx}}{B}=-\frac{1}{ne}\tag{4.4.11}

になる。解析力学から様々な理論分野を組み立てる 第4部第11章では同じ Hall 抵抗率を ρxy=RHB\rho_{xy}=R_{\mathrm H}B と書く。添字の順が逆なだけで、量はこの章の ρyx\rho_{yx} と同じである。電荷 +e+e のキャリア(正孔)では運動方程式の −e-e が +e+e に変わり、σyx\sigma_{yx} と RHR_{\mathrm H} の符号が逆になる(RH=+1/(pe)R_{\mathrm H}=+1/(pe))。ほとんど満ちたバンドの空きが正の電荷の粒子のように振る舞うこと(第2部第7章・第4部第2章)は、この符号として直接測られる。

ρxx\rho_{xx} が変わらないのに σxx\sigma_{xx} が減るのは矛盾でない。Hall の配置では、電子が −y-y 方向へ曲げられて試料の端に溜まり、その電荷が作る Hall 電場 EyE_y が Lorentz 力をちょうど打ち消す。すべての電子が同じ速度で動いているので、全員について打ち消しが成り立ち、電子は磁場が無いときと同じようにまっすぐ流れる。(4.4.8) の σxx\sigma_{xx} は Ey=0E_y=0 に固定した配置(端を短絡した配置)の値で、こちらでは曲げが打ち消されずに伝導度が減る。

電流と電場のなす角 θH\theta_{\mathrm H}(Hall 角)は tan⁡θH=σyx/σxx=ωcτ=μeB\tan\theta_{\mathrm H}=\sigma_{yx}/\sigma_{xx}=\omega_{\mathrm c}\tau=\mu_{\mathrm e}B で、移動度を測る量になる。強い磁場 ωcτ→∞\omega_{\mathrm c}\tau\to\infty では σxx→0\sigma_{xx}\to0、σyx→ne/B\sigma_{yx}\to ne/B となり、Hall 伝導度もまた τ\tau によらなくなる。2次元の電子系で面密度を nn とし、占有率 νf=nh/(eB)\nu_{\mathrm f}=nh/(eB)(スピンを分けて数えた Landau 準位を何本満たすか)を使うと

σyx→neB=νfe2h(4.4.12)\sigma_{yx}\to\frac{ne}{B}=\nu_{\mathrm f}\frac{e^2}{h}\tag{4.4.12}

と書ける。古典の式では νf\nu_{\mathrm f} は磁場とともに連続に変わるが、Landau 準位の間に Fermi 準位がある2次元の系では νf\nu_{\mathrm f} が整数に固定され、Hall 伝導度が e2/he^2/h の整数倍の平らな段になる。これが量子 Hall 効果で、反転層の2次元電子系(第4部第9章)と Berry 曲率の言葉(第5部第5章)で扱う。

例題 4.4.2 銅箔とシリコンの Hall 電圧 ★★

オリジナル幅 ww・厚さ dd の板の xx 方向に電流 II を流し、zz 方向に磁場 BB をかける。

  1. (1) Hall 電圧の大きさが ∣VH∣=IB/(nde)\lvert V_{\mathrm H}\rvert =IB/(nde) で、幅 ww によらないことを示せ。
  2. (2) 銅(n=8.47×1028 m−3n=8.47\times10^{28}\,\mathrm{m^{-3}})の RHR_{\mathrm H} と、厚さ 10 μm10\,\mu\mathrm m の銅箔に 1 A1\,\mathrm A を流し 1 T1\,\mathrm T をかけたときの ∣VH∣\lvert V_{\mathrm H}\rvert を求めよ。
  3. (3) 電子密度 n=1×1021 m−3n=1\times10^{21}\,\mathrm{m^{-3}} の n 型 Si の厚さ 0.5 mm0.5\,\mathrm{mm} の板に 1 mA1\,\mathrm{mA} を流し 0.5 T0.5\,\mathrm T をかけたときの ∣VH∣\lvert V_{\mathrm H}\rvert を求め、(2) と比べよ。
  4. (4) Si の電子の移動度を 0.14 m2 V−1s−10.14\,\mathrm{m^2\,V^{-1}s^{-1}} として (3) の Hall 角を、銅の室温の τ=2.5×10−14 s\tau=2.5\times10^{-14}\,\mathrm s で 1 T1\,\mathrm T の Hall 角を求めよ。
解答

(1) Jx=I/(wd)J_x=I/(wd)、Ey=RHJxBE_y=R_{\mathrm H}J_xB で、VH=Eyw=RHIB/dV_{\mathrm H}=E_yw=R_{\mathrm H}IB/d。∣RH∣=1/(ne)\lvert R_{\mathrm H}\rvert =1/(ne) を入れると ∣VH∣=IB/(nde)\lvert V_{\mathrm H}\rvert =IB/(nde) で、ww は消える。

(2) RH=−1/(8.47×1028×1.602×10−19)=−7.37×10−11 m3 C−1R_{\mathrm H}=-1/(8.47\times10^{28}\times1.602\times10^{-19})=-7.37\times10^{-11}\,\mathrm{m^3\,C^{-1}}。∣VH∣=1×1/(8.47×1028×10−5×1.602×10−19)=7.37 μV\lvert V_{\mathrm H}\rvert =1\times1/(8.47\times10^{28}\times10^{-5}\times1.602\times10^{-19})=7.37\,\mu\mathrm V。

(3) ∣VH∣=10−3×0.5/(1021×5×10−4×1.602×10−19)=6.24 mV\lvert V_{\mathrm H}\rvert =10^{-3}\times0.5/(10^{21}\times5\times10^{-4}\times1.602\times10^{-19})=6.24\,\mathrm{mV}。電流は銅の 1/10001/1000、磁場は半分なのに、電圧は銅の847倍である。密度が 10−710^{-7} 倍と小さいので、同じ電流を運ぶためにキャリアが速く動き、Lorentz 力が大きくなる。磁場を測る Hall 素子に金属でなく半導体を使うのはこのためである。

(4) Si では tan⁡θH=μeB=0.070\tan\theta_{\mathrm H}=\mu_{\mathrm e}B=0.070、銅では ωcτ=eτB/m=4.39×10−3\omega_{\mathrm c}\tau=e\tau B/m=4.39\times10^{-3} である。どちらも弱い磁場の範囲(ωcτ≪1\omega_{\mathrm c}\tau\ll1)にある。

ほかの巻では

木下の勉強ステータス

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